سامسونگ قصد دارد از تجهیزات پیشرفته High-NA EUV شرکت هلندی ASML برای تولید انبوه تراشه های DRAM در سال ۲۰۲۸ استفاده کند؛ اقدامی که نخستین استفاده از این فناوری در تولید DRAM در صنعت خواهد بود.
سامسونگ الکترونیکس با گسترش همکاری خود با ASML، به دنبال تولید تراشه های منطقی و حافظه ای پیشرفته تر برای عصر هوش مصنوعی است. این شرکت همچنین به طرحی صنعتی برای استفاده از فوتومسک های نسل آینده با اندازه ۱۲ اینچ پیوسته است تا از استاندارد ۶ اینچی که دهه ها مورد استفاده قرار گرفته، فاصله بگیرد.
این تغییر می تواند بهره وری کارخانه های تولید تراشه را افزایش دهد، هزینه ساخت را کاهش دهد و محدودیت های stitching را در پیشرفته ترین گره های فرایند تولید برطرف کند. سامسونگ برای توسعه فناوری های ماسک و زیرساخت های موردنیاز این گذار، با شرکای صنعتی همکاری خواهد کرد.
سامسونگ که یکی از بزرگ ترین تولیدکنندگان تراشه های نیمه رسانا در جهان است، اعلام کرده High-NA EUV را تا سال ۲۰۲۸ برای تولید انبوه DRAM به کار می گیرد. استفاده از این فناوری، مسیر توسعه تراشه های حافظه را ادامه می دهد، مراحل تولید را ساده تر می کند و بهره وری ساخت را افزایش می دهد.
یونگ هیون جون، نایب رئیس و مدیرعامل سامسونگ الکترونیکس، گفت عصر هوش مصنوعی به نوآوری در سراسر زنجیره ارزش تراشه نیاز دارد. به گفته او، گسترش همکاری با ASML زیربنای رهبری آینده سامسونگ در سخت افزار هوش مصنوعی و تولید نیمه رساناها را ایجاد می کند.
منبع: SamMobile
